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        中科院分區(qū): 不限 1區(qū) 2區(qū) 3區(qū) 4區(qū)

        期刊收錄: 不限 SCI SCIE

        Journal Of Microelectromechanical Systems

        Journal Of Microelectromechanical Systems
        期刊全稱:Journal Of Microelectromechanical Systems
        簡稱:J MICROELECTROMECH S
        ISSN:1057-7157
        ESSN:1057-7157
        研究方向:工程技術(shù) - 工程:電子與電氣
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        免費(fèi)咨詢 2023最新分區(qū)

        Journal Of Microelectromechanical Systems英文簡介

        The topics of interest include, but are not limited to: devices ranging in size from microns to millimeters, IC-compatible fabrication techniques, other fabrication techniques, measurement of micro phenomena, theoretical results, new materials and designs, micro actuators, micro robots, micro batteries, bearings, wear, reliability, electrical interconnections, micro telemanipulation, and standards appropriate to MEMS. Application examples and application oriented devices in fluidics, optics, bio-medical engineering, etc., are also of central interest.

        Journal Of Microelectromechanical Systems中文簡介

        《Journal Of Microelectromechanical Systems》是一本由IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC出版商出版的專業(yè)工程技術(shù)期刊,該刊創(chuàng)刊于1992年,刊期Bimonthly,該刊已被國際權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE、SCI收錄。在中科院最新升級版分區(qū)表中,該刊分區(qū)信息為大類學(xué)科:工程技術(shù) 3區(qū),小類學(xué)科:工程:電子與電氣 3區(qū);儀器儀表 3區(qū);納米科技 3區(qū);物理:應(yīng)用 3區(qū);在JCR(Journal Citation Reports)分區(qū)等級為Q2。該刊發(fā)文范圍涵蓋工程:電子與電氣等領(lǐng)域,旨在及時(shí)、準(zhǔn)確、全面地報(bào)道國內(nèi)外工程:電子與電氣工作者在該領(lǐng)域取得的最新研究成果、工作進(jìn)展及學(xué)術(shù)動態(tài)、技術(shù)革新等,促進(jìn)學(xué)術(shù)交流,鼓勵(lì)學(xué)術(shù)創(chuàng)新。2021年影響因子為2.829,平均審稿速度約3.0個(gè)月。

        中科院分區(qū)最新升級版(當(dāng)前數(shù)據(jù)版本:2021年12月最新升級版)

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        工程技術(shù) 3區(qū) INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

        JCR分區(qū)(當(dāng)前數(shù)據(jù)版本:2021-2022年最新版)

        JCR分區(qū)等級 JCR所屬學(xué)科 分區(qū) 影響因子
        Q2 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC Q2 2.829
        PHYSICS, APPLIED Q2
        INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION Q2
        NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY Q3

        期刊指數(shù)

        影響因子 h-index Gold OA文章占比 研究類文章占比 OA開放訪問 平均審稿速度
        2.829 131 6.65% 99.22% 未開放 約3.0個(gè)月

        IF值(影響因子)趨勢圖

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